지난 시간에는 기판 검사 공정의 세부 공정 중 ET (Electronic Test, 전기 검사)에 대해서 자세히 알아보았습니다. 이번 시간에는 이후 공정들에 대해 자세하게 알아보도록 하겠습니다. 3D AFVI (3 dimensional Auto Final Visual Inspection) 공정의 정의 : PCB unit 내의 Bump 영역을 광학 scan하여 Bump의 height, diameter, surface quality를 검사하는 공정. Defect ability : Metal defects, SR defects 3D AFVI machine : 표면 Scan을 통한 Bump의 height, diameter, surface quality를 검출합니다. VRS (Verification Re-insp..

지난 시간에는 기판 검사 공정의 개요와, 간단한 세부 공정에 대해 알아보았습니다. 오늘은 지난 시간에 이어서 기판 검사 공정의 세부 공정에 대해 더 알아보겠습니다. ET (Electronic Test, 전기 검사) 공정의 정의 - Open / Short inspection : PCB 회로에 전압과 전류를 인가하여 회로 Open 및 Short를 검출하는 전기 검사 공정 검사 설비에 따라 Jig type과 FPT type으로 나뉘며, 검사 방식에 따라 2 wire와 4 wire 방식으로 나뉨. Normal type process와 SOP type process에서 모두 가장 첫번째 검사 공정에 해당함. ET (Electronic Test, 전기 검사) 공정의 분류 1) dedicate type (Jig ty..

오늘은 기판 검사 공정의 세부 공정에 대해 알아보겠습니다. PKG inspection process flow chart Normal process ET(Electronic Test) : Open / Short inspection AFVI(Automatic Final Visual Inspection) with VRS : Surface inspection. AFVI는 M/C scan, VRS는 Human confirm FVI(Final Visual Inspection) : Necked eye inspection (use the microscope) Marking : Defect unit marking, Laser marking Rince : Final rinse (use the D/I water) Auto ..

기판의 후공정인 검사 공정에 대해서 알아보겠습니다. 1. Product in PKG BU 1) Memory Card (1) MMC (RS/HS/micro) (2) SD (mini/micro) (3) xD and diverse card - 2 ~ 4 Layer - Flat surface (SCF) - Various finish plating (Hard/Soft/ENIG/Tin) 2) PBGA & FBGA (1) ASIC (2) Flash Memory (3) MCP - 2 ~ 6 Layer - 1-2-1 Build up - Bus-less wire-bond 3) CSP, FCCSP (1) CSP (2) FC + W.B type (3) Fine Bump Pitch - n-n-n Layer (n=2~6) - T..

기판 표면처리 공정 중 무전해가 아닌 전해 금도금에 대해서 알아보겠습니다. 표면처리 : Chip connection 영역의 부식 방지와 안정적인 wire bonding 및 soldering 성능을 부여하기 위한 기술 표면처리 종류 : 전해 금도금 / 무전해 금도금 / 유기막 형성 방식 Soft Au (Electrolytic Ni/Au plating) 장점 : SBJ 및 W/B 특성이 매우 우수함 단점 : 높은 금도금 두께로 인해 공정 단가가 높음 OSP (Organic solderablity preservative) 장점 : 생산성이 뛰어나고 경제성이 매우 우수함 단점 : W/B에 부적합하며 내열성이 약함 ENIG (Electroless Ni Immersion Gold) 장점 : SBJ 특성과 경제성이 ..

무전해 금도금의 세부 공정에 대해 알아보겠습니다. 무전해 금도금 세부 Process Jet 연마 - 탈지 - Cleaning - Soft etching - Pre dip - Activator - 무전해 Ni - 무전해 Au 1. Jet 연마 : SR 전처리에 사용되는 Jet 연마와 동일한 역할을 합니다. Cu 표면의 오염 물질을 제거하고, 유기물 및 산화 피막을 없애는 역할을 합니다. 조도를 형성시켜 밀착력을 상승시키는 역할도 합니다. 2. 탈지 : 제품 표면의 유기 오염물 제거 및 산화막(CuO) 제거, 친수성을 부여하여 이후 공정의 Soft etching이 균일하게 이루어질 수 있도록 합니다. 종류 - 산성 탈지제 : PSR 잉크에 영향이 적습니다. Cu 표면의 산화막 제거로 활성화, 탈지 후 중화 ..