CO2 Laser Process A processing step within the package substrate process for implementing via holes. The layer-to-layer connection via holes are formed by controlling the beam power of the laser equipment. CO2 Laser Equipment Setup CO2 Laser equipment is divided into an oscillator, optical path, and processing unit. Galvano Mirror Configuration Galvano consists of mirrors and F-theta lenses. Gal..

Today, we will learn about the types of defects in CNC drilling and the CO2 laser process for implementing via holes. Defect Types in Drill Process Drill Eccentricity Cause: Board flex abnormality / Run-out, equipment misalignment / Foreign particles on board surface Defect Effect: Inner-layer short / Outer-layer open / Reliability issues Odd Drill Cause: Drill calibration misalignment / Stackin..

이번 게시물부터는 CMP 공정(Chemical-Mechanical Polishing)에 대하여 알아보겠습니다. CMP 공정 (Chemical Mechanical Polishing) : 웨이퍼 표면에 생성된 산화막, 금속막 등의 박막을 화학적 작용과 물리적 작용을 동시에 활용하여 평탄화하는 공정 1. CMP 설비 구성 1) 연마 패드 : 패드의 경도, 표면 거칠기 등 패드 특성이 CMP 공정 품질에 중요 2) 웨이퍼 캐리어 (연마 헤드) : 웨이퍼를 고정하고 압력을 가해 CMP 패드에 눌러줌과 동시에 웨이퍼를 일정 속도로 회전시킴 3) 슬러리 분사기 : 선택비 향상 등 CMP 특성을 개선할 수 있음 2. CMP 원리 1) 산화막 CMP 2) 금속 CMP 3. CMP 공정의 중요 파라미터 1) Removal..